簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果：共5筆資料 檢索策略： "方劭云".ccommittee (精準) and year="106"


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    應用基因演算法於含次級解析輔助特徵圖案之光學鄰近修正技術
    • 自動化及控制研究所 /106/ 碩士
    • 研究生： 黃鈺儒   指導教授： 郭鴻飛
    • 由於極紫外光微影系統技術開發上仍有困難，無法立即取代現有生產線上ArF-193nm浸潤式微影系統微影製程生產，因此吸引許多研究者尋找改善方案，其中可利用光源光罩最佳化程序搜尋最佳的光罩圖案設計與對應…
    • 點閱：945  下載：23 

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    基於機器學習之對準誤差量測模型開發
    • 自動化及控制研究所 /106/ 碩士
    • 研究生： 林子寒   指導教授： 郭鴻飛
    • 在半導體的先進製程中，對準誤差量測技術(Overlay Metrology)為關鍵的製程步驟，準確地測量出積體電路層與層之間的對準誤差(Overlay)，可以有效減少製程的重工率進而降低製程成本。D…
    • 點閱：887  下載：18 

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    具有精確估計最短路徑且迴避障礙物功能之線路開路連接器
    • 電機工程系 /106/ 碩士
    • 研究生： 方冠奇   指導教授： 方劭云
    • 在數位積體電路的設計流程結束後，工程變更命令(Engineering Change Order)可能造成某些線路開路，如電源線或接地線。由於存在著大量的障礙物，因此解決這些開路線路是一個極具挑戰性的…
    • 點閱：267  下載：9 
    • 全文公開日期 2019/07/24 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 2019/07/24 (國家圖書館：臺灣博碩士論文系統)

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    擺放巨集電路階段基於卷積神經網路之可繞度預測
    • 電機工程系 /106/ 碩士
    • 研究生： 黃羽鴻   指導教授： 方劭云
    • 隨著先進製程快速發展以及半導體產業的蓬勃發展，晶片大小也越來越小，因此有更多複雜的設計規則需要被遵守，而一個晶片在被下線之前必須沒有違反任何一個設計規則，這導致一個電路的可繞度就變得相對重要許多。此…
    • 點閱：288  下載：1 

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    基於生成對抗網路之條件式高解析度圖像生成
    • 電機工程系 /106/ 碩士
    • 研究生： 楊庭嘉   指導教授： 王乃堅
    • 本論文實作一個可根據使用者輸入條件而生成高解析度人臉圖像的系統。我們首先實 作一個基於漸進式生長生成對抗網路以及Wasserstein距離的高解析圖像生成器，並使 用CelebA資料庫訓練其生成高解…
    • 點閱：361  下載：1 
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